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    元旦的时候陆见他们跑去光学研究所参加了光刻机还有蚀刻机的项目组的会议，会议上人很多，他们计算机研究所领头的是霍所长，他们这次也是要出不少力的，不过这次研究主要出力的人还是光学研究所这边的人，陆见他们主要负责的是控制程序这一块。

    会议开得非常热闹，才进行没多久就有人吵起来了，不过他们说的都是光学相关的技术，和陆见他们的没有很大关系，跟着陆见过来的不少人都有些听不懂。陆见之前看过不少光学相关的书，倒是差不多能听懂，但如果让他说出个什么来的话就完全不行了。只能耐心仔细的听着，毕竟这是一个项目组，不少研究都是有联系的，多一些了解对后面的研究也有好处，会让他们设置的控制程序更合适。

    第262章

    光刻机的研究要比蚀刻机复杂多了, 所以这个研究的重心还是放在光刻机的研究上面的。

    这一次光学研究所的目标还是非常大了，想直接将步进扫描投影曝光机，准备将集成电路图形的线宽缩小到0.35 μm的节点。波长能达到193nm, 光学光刻分辨率争取能达到70nm的极限，目标很宏大, 自然需要的时间也不少。

    限制芯片大小的主要关机就是在于光刻系统能获得的分辨率有关, 而提升分辨率最有效的方法就是减小照射光源的波长, 因此这个项目的关键就是开发和寻找新型的短波长的光源, 研究不同的光源本来就是光学研究所的重要任务, 所以这一次他们项目的重点也就是找到只有193nm甚至是要比这个数字更短的光源。

    而这项任务除了本身的研究实力, 大量的实验之外, 自然还需要不少运气了, 陆见倒是记得光刻机的几种光源, 大概是激光、紫外光、深紫外光，还有极紫外光, 而极紫外光是后世最先进的光源技术, 只可惜陆见也就知道些名字，前世的时候并不是很了解，他近段时间倒是补充了不少光学知识, 但是后面这些光源不是还没有被研发出来, 就是应用方面还有很多问题, 所以现在的光刻机使用的还是激光。

    陆见坐在霍所长的边上, 耳中听着那些人的话，一边的霍所长也听得有些无聊，现在还没有提到他们的部分，他不像陆见一般，这次过来的原因主要就是因为这个是三个单位的合作项目, 他过来算是重视，具体任务还是交给陆见他们去做的，所以他就只是听着。他本来的位置不在陆见这边，是他强烈要求才做过来的，按他的说法反正我都没有什么话要说，哪里需要坐这么后面。

    不过一边的陆见倒是一直在记着笔记，趁着中场休息的时候霍所长抢过陆见的笔记本，仔细看了起来，还真是有模有样啊。他不由得啧啧两声，有些感兴趣地说：“这个笔记记得挺详细的啊？”